Makeup Revolution Cut Crease Canvas Eyeshadow Base - Etch Deep основа за очи 4,5 ml

Makeup Revolution Cut Crease Canvas Eyeshadow Base - Etch Deep основа за сенки за очи 4,5 ml

Makeup Revolution Cut Crease Canvas Eyeshadow Base - Etch Deep е революционна основа за сенки за очи, която осигурява перфектна основа за вашите сенки. Тази основа е част от колекцията Cut Crease Canvas на реномираната марка Makeup Revolution, известна със своите иновативни продукти в областта на декоративната козметика. С тази основа ще постигнете прецизен и дълготраен вид, който е идеален за вечерни събития или специални поводи.

Тази основа е създадена, за да изравни тена на кожата и да осигури гладка повърхност за нанасяне на сенки. Кремообразната ѝ текстура се разнася лесно и гарантира, че сенките ви ще останат на място през целия ден. Благодарение на дълбокия си нюанс Etch Deep, е идеална за създаване на драматичен и впечатляващ вид, който привлича погледа от пръв поглед. Тази основа е перфектен избор за жени, които искат да подчертаят очите си и да им придадат интензивност.

Активни съставки

• Глицерин - Хидратира и омекотява кожата.
• Мика - Придава на кожата лек блясък и сияние.

Ефекти

• Изравняване - Изравнява тена на кожата и я подготвя за нанасяне на сенки.
• Дълготраен ефект - Поддържа сенките за очи на място през целия ден.

Подходящо за

Тази основа е идеална за нормален тип кожа. Подходяща е за жени, които търсят начин да подчертаят очите си и да постигнат прецизен вид.

Употреба

Нанесете малко количество от основата върху клепача с помощта на апликатор. Разнесете леко с пръсти или четка, докато не създадете гладка повърхност. След това нанесете любимите си сенки за очи.